IBM和富士胶卷的新技术有以下一些亮点:
使用了新的高密度,双涂层颗粒磁带。它是一种新的超细,垂直导向的钡铁氧体磁介质,没有采用昂贵的溅射或蒸发镀膜工艺。
增强了磁场写入头技术。IBM苏黎士研究实验室在圣何塞研究中心的协助下,开发出了一种新的读取头,它具有更强的磁场,其内部的磁体体积更小,工作更持久和稳定。
先进的纳米级别磁头定位技术。比LTO6格式增加了27倍轨道,需要一个新的低噪音磁带传输系统。利用纳米级方案改进了伺服模式与探测位置信息方式。具有一个新的磁道跟踪控制器,它们取得了数据读取与标准值仅有10.3纳米
偏差的好成绩。
新的信号处理数据通道,它能以90纳米宽的GMR读取头可靠探测出每英寸磁带上的60万bit的线性数据密度。
10.3纳米比当今芯片制造使用的工艺级别还要微小。
IBM和富士胶卷认为,未来10年,他们能每两年对磁带的数据密度翻番。这种速度快于磁盘的容量增加速度。
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